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鑫南光为你介绍河北光刻机的种类

所属分类:行业百科    发布时间: 2021-06-07    作者:admin
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光刻机(Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。接下来小编就给大家介绍一下河北光刻机的种类一起来看看吧。

河北光刻机

a.接触式曝光(Contact Printing):掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当,设备简单。接触式,根据施加力量的方式不同又分为:软接触,硬接触和真空接触。

1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方式),掩膜盖在基片上面;

2.硬接触 是将基片通过一个气压(氮气),往上顶,使之与掩膜接触;

3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气,使之更加好的贴合(想一想把被子抽真空放置的方式)

软<硬<真空 接触的越紧密,分辨率越高,当然接触的越紧密,掩膜和材料的损伤就越大。

缺点:光刻胶污染掩膜板;掩膜板的磨损,容易损坏,寿命很低(只能使用5~25次);容易累积缺陷;上个世纪七十年代的工业水准,已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了,国产光刻机均为接触式曝光,国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。

b.接近式曝光(Proximity Printing):掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙(Gap),Gap大约为0~200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10 倍以上),图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用非常广泛。

c.投影式曝光(Projection Printing):在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。

优点:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影响减小。

河北光刻机

以上内容就是小编给大家介绍的河北光刻机的种类,希望对大家有所帮助。兴发187娱乐官网专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号光刻机;在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢退火工艺等方面使用的各型真空炉、氢气炉;在零件真空干燥(储存)柜、真空镀膜机等设备的设计和制造方面,公司均有自己独特的专长。




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